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第74期:Nano Imprinting Lithography Technology

2008-05-16
    应我所陈弘达研究员的邀请,Suss上海公司总经理龚里博士将于4月7日上午来我所学术交流,并在“半导体科学技术仑坛”上作第74期讲座,望广大科研人员及研究生积极参加!

    报告题目: Nano Imprinting Lithography Technology

    报告时间: 2008年4月7日(星期一) 上午 10:00

    报告地点: 中科院半导体研究所学术会议中心

    报告人: 龚里博士

    Abstract:1.Why NIL - Nano Imprint Technology?2.NIL Methods and Processes;3.Equipment solutions for NIL;4.Stamps and Materials;5.Applications – from R&D into Volume Production;6.Status Today and Next Actions

    报告人简介:龚里博士曾就学于德国Erlangen-Nuernberg大学获材料学硕士。此后加入德国夫琅霍夫集成电路研究所。工作的领域是半导体生产工艺技术和测量方法。93年获Erlangen-Nuernberg大学电子工程学博士学位。1994年底加入Suss公司。从2001年至今任Suss上海公司总经理。

    科技处


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