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亚微米光刻系统
2009-09-15 | 【

SUSS匀胶机

烘箱和热板

MA6亚微米光刻设备
德国Suss Microtec公司MA6/BA6双面光刻机。主要技术指标:
基片双面对准(包括键合预对准);
基片尺寸:10′10mm2~F100mm;
光源波长:435nm和365nm;
套刻精度:<1mm;
光源均匀性:<5%
四种曝光方式(接近、软接触、硬接触、真空复印)

SUSS显影机

去胶设备

 

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