您现在的位置:首页 > 专题 > 科研设备
电子束光刻设备
2009-09-15 | 【

Raith150电子束光刻设备

德国Raith公司的Raith 150-Turnkey 直写式电子束曝光机主要技术指标:
SEM分辨率:2nm;最小线宽:50nm;拼接精度:20 nm.

 

  专题
  深入学习实践科学发展观
  建国六十周年专题
  科研设备
版权所有 © 中国科学院半导体研究所 京ICP备05085259号
通信地址:北京市海淀区清华东路甲35号 北京912信箱 (100083)
电话:010-82304210